中国大陆也有一家光刻机厂商，那就是上海微电子，不过份额几乎可以忽略，接近无零。上海微电子对外公开的光刻机，还停留在90nm，技术相对落后，另外就是上海微电子的光刻机，很多用于后道工序，也就是封测这一块，前道制造上，应用的少。

并且，从这些名单，软件、设备、HBM等来看，其实美国的目的更为清晰了，那就是除了要锁死中国的半导体产业之外，还想要阻止中国大陆诞生出台积电、英伟达这样的企业。

·聚焦:人工智能、芯片等行业欢迎各位客官关注、转发前言：各大巨头在未来仍将围绕High-NA ...

尽管台积电早已划清界限，不再向华为出货芯片，而且采用美国技术的晶圆代工厂也纷纷避而远之，ASML更是无法向国内出货EUV光刻机，但华为似乎总能拿出让人眼前一亮的先进芯片。

EUV 技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光转向使用低数值孔径（0.33 NA）EUV和高数值孔径（0.55 NA ...

今年9月，台积电（TSMC）从ASML手上接收了其首台High-NA ...

12 月 9 日消息，据荷兰媒体《NOS》报道，荷兰庇护和移民事务部对一名阿斯麦（ASML）前员工实施了为期 20 年的入境禁令。这名与俄罗斯有联系的个人目前正在接受调查，他被怀疑从阿斯麦窃取重要的微芯片文件并涉嫌从事间谍活动。当地媒体报道称，荷兰很少实施此类禁令，通常只在涉及国家安全的案件中才会这样做。

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和 ...

因此，DNP正在扩大对外销光掩膜市场来说处于大众消费品市场（Volume ...

High NA EUV光刻机是全球首款采用0.55NA数值孔径的光刻机，分辨率达到8nm，成像对比度比之前的NXE系列0.33NA EUV系统高出40%，支持2nm逻辑节点图案化，单价高达3.5亿欧元。 Rick Lenssen此前曾花费2.5年时间 ...

目前，这名 ASML 前员工仍被拘留在荷兰，并预计本周于荷兰鹿特丹的一家法院举行听证会，进一步审理此案件。报导强调，这次听证会的性质可能代表着法院正在考虑较轻的判决，不过可能仍然会技术间谍罪指控。而 ASML ...