激光会将锡蒸发成等离子体，发射出光子能量光谱。EUV光学元件可从这个光谱中获得所需的13.5纳米波长，并引导它通过一系列镜子，再将其反射到有 ...

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和 ...

EUV 技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光转向使用低数值孔径（0.33 NA）EUV和高数值孔径（0.55 NA ...