近日，国家知识产权局公布了一项备受关注的专利信息，通威微电子有限公司成功取得了一项名为“一种碳化硅Wafer蚀刻炉监控装置”的实用新型专利。这一消息迅速引发了半导体行业的广泛关注，同时也为科技爱好者们带来了新的热议话题。

在全球科技飞速发展的今天，半导体行业作为支撑现代电子技术的核心，其最新进展备受瞩目。近日，通威微电子有限公司成功获得一种碳化硅蚀刻装置的专利消息，标志着该公司在碳化硅Wafer制造领域的技术创新迈出了重要一步。根据国家知识产权局的信息，授权公告号CN222507554U，申请日期为2024年5月。此次专利的取得，不仅为通威微电子增强了市场竞争力，也为整个半导体行业的进步注入了一剂强心针。 碳化硅的 ...

近日，西安电子科技大学集成电路学部在实现钙钛矿太阳能电池商业化上取得重要突破，研究成果以“Wafer-scale monolayerMoS2film integration for stable ...