EUV 技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光转向使用低数值孔径（0.33 NA）EUV和高数值孔径（0.55 NA ...

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长，成功将光刻精度推向了新的高度；再到如今的高数值孔径（High-NA）光刻机正式登上历史舞台 ...

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和 ...