近日，全球领先的半导体制造设备供应商ASML推出的Twinscan EXE:5000 EUV光刻机，凭借其High-NA（高孔径）技术，成为了当前半导体制造领域中最耀眼的明星。据悉，Intel已率先引入并部署了两台此型号的光刻机于其俄勒冈州的Fab ...

快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上最先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了第一台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，正在紧张地研究测试中 ...

Intel资深首席工程师Steve Carson透露，迄今为止，两台EUV光刻机已经生产了3万块晶圆，当然不算很多，但别忘了这只是测试和研究使用的，并非商用量产，足以证明Intel对于新光刻机是多么的重视。

三星 曾预定2024下半年量产 Exynos 2500 并搭载Galaxy S25旗舰手机。 但 Exynos 2500 采第二代3nm GAA良率低，传闻只有20%，导致 Exynos 2500 量产延后，Galaxy S25系列被迫全部采高通Snapdragon8 Elite处理器。

近日，三星电子传来重磅消息！据行业消息人士透露，三星电子的代工业务将从三井化学购买价值数十亿韩元的EUV（极紫外光刻）光罩护膜。这一合作将助力三星在韩国华城园区S3工厂的3纳米晶圆代工生产线上实现量产。这一消息引发了广泛关注，毕竟3纳米芯片的量产代表 ...

来源：参考消息网参考消息网2月25日报道据台湾“中央社”2月24日报道，台积电熊本二厂动工时间修改为“今年内”，但2027年底投产时间不变。台积电表示，其在日本第二座晶圆厂计划维持不变，目前无进一步信息可分享。据报道，日本媒体24日称，台积电熊本二厂的开工时间，从原先规划的今年3月修改为“今年内”，不过投产时间 ...

2月26日消息，行业消息人士称，由于芯片制造商希望提高超精细加工的生产率，三星电子（Samsung Electronics）的代工业务将从三井化学（Mitsui Chemicals）购买价值数十亿韩元的EUV（极紫外光刻）光罩护膜。经过最终测试后，三星将在其韩国华城园区S3工厂的3纳米晶圆代工生产线上采用EUV光罩护膜进行量产。（首尔经济日报） ...

三星之所以这么看重这项技术，是因为“混合键合”技术省去了传统芯片连接所需的凸块，缩短了电路，并提高了存储性能和散热特性，“特别是晶圆之间的混合键合，它键合的是整个晶圆而不是芯片，在提高生产效率方面也具有优势”。

世界先进25日召开法说，总经理尉济时表示，因需求提升与客户因应关税提早拉货，第一季晶圆出货量估季增8％至10％，平均售价季减4％至6％，受惠产品组合较佳贡献，季毛利率约29％至31％间，今年各季产能利用率可回升到70％到80％，目前订单能见度达三个月 ...

近日，台积电日本子公司JASM位于熊本县的第二晶圆厂建设计划传出调整消息。原本预计于2025年一季度动工的第二晶圆厂，如今将动工时间推迟至2025年内。尽管建设时间有所延后，但该晶圆厂2027年投产的计划并未改变。

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。 Intel资深首席工程师Steve ...

报道指出，英特尔在英特尔18A的发展不只是技术展现，还代表着一家公司在生存威胁中努力重新定义自我的目标。然而，低良率就代表着面对大规模生产的延后，还可能进一步无法提供客户所需的尖端芯片。同时，英特尔的分拆传闻也反映出对相关性的迫切追求，也就是将IC设 ...