制造芯片离不开光刻机，芯片制程越先进，对光刻机的性能要求也就越高，相应的，制造光刻机的难度也随之增大。 光刻机作为芯片生产的关键设备，被视为国家战略重器之一。它分为EUV和DUV两种类型。EUV光刻机的制造技术要求尤为严格，这属于我国技术领域的 ...

赵永蓬教授团队另辟蹊径，研发出基于电能的等离子体光源技术，直接利用电能生成等离子体，产生13.5nm极紫外光。相比传统技术，哈工大的方案具备以下优势： 1. 能耗更低：省去了激光生成环节，极大地降低了能源消耗。 2. 设备更便宜：减少了对高精密激光 ...