（图片来 EUV光刻技术的推进相当困难，光刻机龙头ASML也是举步维艰，一点点改进。 快科技9月7日消息，ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000” 混迹摄影圈，相信大家都听过一句话，镜头后面那个头比镜头更 ...

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和更短的波长，成功将光刻精度推向了新的高度；再到如今的高数值孔径（High-NA）光刻机正式登上历史舞台 ...

从早期的深紫外（DUV）光刻机起步，其稳定可靠的性能为半导体产业的发展奠定了坚实基础；到后来的极紫外（EUV）光刻机以其独特的极紫外光源和 ...

EUV 技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光转向使用低数值孔径（0.33 NA）EUV和高数值孔径（0.55 NA ...

11月4日，永新光学（603297.SH）再度冲击涨停，此前已走出4天3板。 2024年前三季度，永新光学实现营收6.51亿元，同比增长6.54%。公司持续推动技术研发和产品更新，加速实现国产替代。同时，大规模设备更新政策有望助力永新光学显微镜业务快速成长 ...