Chinese private enterprises continued to lead the country's foreign trade with transactions totaling 24.33 trillion yuan (US$3.4 trillion) last year, posting an 8.8 percent year-on-year increase and ...

最近英特尔在ISSCC 2025上，介绍了备受期待的Intel 18A工艺技术，其中强调了SRAM密度的重大改进。同时在官网更新了Intel 18A工艺的信息，表示已经为客户项目做好准备，将于2025年上半年开始流片。为了在Intel ...

快科技2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。 Intel资深首席工程师Steve ...

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英特尔24日表示，ASML首批的两台先进曝光机已投产，早期数据显示比之前机型更可靠。 英特尔资深首席工程师Steve Carson指出，英特尔用ASML高数值孔径（High NA）曝光机一季内生产3万片芯片，即生产数千颗运算芯片的大型硅片。

imec-ASML High NAEUV 生态系统包括领先的芯片制造商、材料和 光刻胶 供应商、 掩模 供应商和计量专家等合作伙伴，他们共同致力于开发和优化High NAEUV 光刻技术，用于 2 纳米以下节点的下一代半导体制造。

这两台光刻机是阿斯麦的高数值孔径 (High NA)极紫外光刻机，是目前世界上最先进的光刻机，能够比之前的阿斯麦光刻机生产出更小、更快的计算芯片。去年，英特尔成为了全球首家接收这些光刻机的芯片制造商。