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来自MSN英特尔两台High NA EUV光刻机已投产,单季完成3万片晶圆据路透社2月24日报道,英特尔资深首席工程师Steve Carson在美国在加利福尼亚州圣何塞举行的一场会议上表示,英特尔已经安装的两台ASML High NA EUV光刻机正在其晶圆厂生产,早期数据表明它们的可靠性大约是上一代光刻机的 ...
英特尔去年成为全球第一家接收这些设备的芯片制造商,与之前ASML设备相比,这些机器有望制造出更小、更快的运算芯片。此举是英特尔策略转变,因英特尔采用上代极紫外光(EUV)曝光机时落后竞争对手。
快科技2月25日消息, Intel宣布,ASML首批两台高数值孔径(High-NA EUV)极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示,其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。
英特尔表示,计划使用High NA EUV设备来协助开发其所谓的18A制程,该技术预计今年稍晚时跟着新PC芯片量产; 此外,也计划下代14A制程全面导入新设备,但尚未公布量产时间。
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