英特尔去年成为全球第一家接收这些设备的芯片制造商，与之前ASML设备相比，这些机器有望制造出更小、更快的运算芯片。此举是英特尔策略转变，因英特尔采用上代极紫外光（EUV）曝光机时落后竞争对手。

imec-ASML High NAEUV 生态系统包括领先的芯片制造商、材料和 光刻胶 供应商、 掩模 供应商和计量专家等合作伙伴，他们共同致力于开发和优化High NAEUV 光刻技术，用于 2 纳米以下节点的下一代半导体制造。

快科技2月25日消息， Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产 。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻机都有明显提升。

英特尔表示，计划使用High NA EUV设备来协助开发其所谓的18A制程，该技术预计今年稍晚时跟着新PC芯片量产; 此外，也计划下代14A制程全面导入新设备，但尚未公布量产时间。

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